一名南韓晶片製造商SK海力士中國籍前員工疑向華為洩露晶片關鍵技術資料被捕。據韓聯社 28 日消息，被捕疑犯A某是一名中國籍女性員工，檢方指控她向華為洩露關於降低晶片不良率的核心技術。
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SK海力士前員工向華為洩密被捕
綜合韓聯社等媒體報道，韓國京畿南部警察廳產業技術安全偵查隊28日表示，A某涉嫌違反《防止產業技術洩露及保護法》，上月底入境南韓時被捕，案件目前在水原地方法院驪州分院審理。
據悉，疑犯2013年加入SK海力士，長期在分析晶片不良情況的部門工作。從2020年到2022年，A某在SK海力士中國分公司擔任組長，負責聯絡企業客戶。然而，2022年6月，A某返回韓國後立即轉職到華為。案情指，疑犯在離職之前列印3000多張涉及半導體核心工序和晶片技術文件。儘管SK海力士對員工使用USB 儲存裝置有嚴格限制，同時對列印文件、列印人員以及文件用途等資訊有詳細記錄和管理，但SK海力士並不清楚這些文件的具體用途。南韓警方相信疑犯將文件分批轉移給外部人士，但她堅決否認有關指控。
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Source：chinatimes.com、m-cn.yna.co.kr