2027 年將迎來 iPhone 誕生 20 周年，市場對這款紀念型號的期待度極高。根據最新流出的供應鏈情報，蘋果（Apple）正聯同三星開發一款前所未見的客製化 OLED 面板，試圖打破傳統屏幕的邊框限制。據悉，這款 iPhone 20 周年紀念版將首度採用「等深微曲面」設計，配合突破性的顯示技術，勢將成為蘋果下一個 20 年的美學基準。
突破邊框限制：首採「等深微曲面」設計
有別於部分 Android 手機誇張的「瀑布屏」，蘋果更傾向於細微且對稱的設計。消息指出，iPhone 20 周年紀念版的屏幕將在機身四邊以極淺的弧度向下延展，打造出「等深微曲面」。
這種設計不僅能讓屏幕黑邊在視覺上徹底消失，呈現近乎「全屏幕」的極致效果，更能大幅改善握持手感。機身邊緣觸感將變得如鵝卵石般溫潤圓滑，同時避免畫面在邊緣出現扭曲。對於習慣手勢操作的香港用家而言，由屏幕邊緣向內滑動的操作體驗將會變得更自然流暢。
引入 COE 無偏光片技術：屏幕更薄、更透亮
為了讓這款 2027 年旗艦機擁有更極致的厚度與亮度，蘋果據報將引入「無偏光片（Pol-less）」顯示技術。
透過 COE（濾色片封裝）工藝，蘋果會直接將濾色片應用於顯示層上，從而移除傳統 OLED 屏幕頂部的偏光片層。這項技術升級能帶來以下優勢：
- 大幅減輕面板的重量與厚度。
- 顯著提升透光率，在降低耗電量的同時呈現更明亮的畫面。
雖然移除偏光片會帶來光線反射的挑戰，但供應鏈消息透露，蘋果計劃採用改良後的抗反射塗層，並在顯示層中加入火山口形狀的光擴散層，以確保屏幕各區亮度高度統一，在視覺震撼與效能間取得完美平衡。
邁向無孔全屏幕：全玻璃機身與屏下 Face ID
除了屏幕技術的革新，市場亦傳出 iPhone 20 周年紀念版將採用全玻璃機身設計。目前最大的技術挑戰在於如何隱藏屏下感應器。
雖然市場分析師 Ross Young 曾對屏下 Face ID 的研發進度持保留態度，但不少爆料人士仍預期蘋果能趕及在 2027 年實現技術突破。目前蘋果正積極測試屏下相機技術，力求在不犧牲自拍畫質的前提下隱藏鏡頭。即使初期未能做到完全隱形，亦有可能採用「屏下 Face ID 搭配極小開孔鏡頭」的方案，向完全無孔、無凹槽的巔峰之作邁進。
Source：Macrumors