發展半導體產業屬十四五國家規劃中優先處理的事項，早前亦已有報導指中國的半導體產量大升，7 月的出貨量已創歷史新高。不過即使中國已經傾盡全力發展半導體，但由於無法獲得全球最大半導體設備製造商最先進的光刻機，導致中國在自主發展半導體的過程中遇上困難，更有媒體表示即使中國半導體產量連創新高，但距離自給自足仍很遙遠。
- 中國將發展半導體產業定為國家規劃中優先處理的事項
- 近日報道指中國 7 月的半導體出貨量創歷來新高
- 不過由於中國未能獲得最先進的光刻機，導致距離半導體自給自足仍很遙遠
中國在過去兩年受到美國的制裁，限制獲得先進的芯片技術和現代電子產品的其他重要零件。同時由於現時全世界能夠生產極紫外光微影製程（EUV）的只有荷蘭 ASML 的光刻機，如要生產 7nm 以下的高科技晶片的話，必須擁有 ASML 的光刻機。不過受到制裁，中國現時無法購買該公司的光刻機。
據中科院計算技術研究所的數據，中國現時僅具有量產 28nm 製程芯片的能力，並正研發 14nm 製程芯片的生產工藝。不過，與 EUV 的 7nm 製程芯片生產技術仍有一大距離。此外，一個完整的供應鏈也非常重要，生產芯片的原材料、專用設備上，中國現時仍不能在製造芯片方面達至自給自足。
北京師範大學許粲昊教授表示，中國近年在半導體產業上的確是有所突破，不過主要只是彌補了過去落後的技術。即使現時已經全力發展半導體，也需慢慢追趕上發展的步伐，而此需要一個非常長的過程，或許是 10 年以上的時間。
由於中國缺少了芯片最重要的製造光刻機，另外材料部分也需依賴外國入口。以中芯國際最新 14nm 製程芯片為例，部分材料是 100% 依賴入口，單單是 EUV 的光阻劑便需 100% 從日本入口，因此現時中國在半導體生產上完全說不上是自主。
另外，即使中國已擁有材料的製造能力，最終的成敗，仍需取決於芯片的製造技術。發展半導體並不是指有設備和材料，便可順利地生產出 7nm 製程芯片，製造技術也是非常重要的一環。現時，製造先進製程的芯片技術門檻越來越高，所以對於中國要達到半導體「自給自足」仍有一段長的距離。
【相關報道】【Remark晶片重現】日本發現逾 3 成半導體為假冒品 貨源來自中國韓國及東南亞【下一頁】
【相關報道】中國 7 月半導體產量 創歷史新高達 316 億顆【下一頁】
即刻【按此】，用 App 睇更多產品開箱科技影片
Source：網易